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装置概要

円筒型炉内の主炉床とその中の複数の副炉床がそれぞれ回転することにより高い均一性の焼成が可能なバッチ式炉です。

特長

MLCC等の小型電子部品の精密雰囲気制御焼成用に最適
超高速昇温(最大15℃/分)により､短時間焼成が可能
コンパクトな設計によりセルライン用設備としても最適